NEO Cコーティング（プラズマCVD)
NEO Cコーティング（プラズマCVD)装置
低温プラズマの熱処理への応用により開発されたプラズマCVD法は、PVD法・CVD法両技術の特長を兼ね備え、すでに半導体産業では重要な成膜技術です。例えば、従来1000℃前後の高温化で行われていた窒化ケイ素やアルミナの析出温度をプラズマの持つ電気化学的エネルギーにより200～300℃程度まで引き下げることを可能にしています。
現在プラズマCVD法は、次世代の成膜技術として複雑形状の大型金型や量産小物部品などのセラミックコーティングをはじめとした表面改質、あるいは新素材の研究開発などに様々な産業分野からその可能性と実用化について期待されています。
プラズマCVD装置は、豊富な経験を生かした確かなプラズマ制御技術、安定したガス制御法、そして多くのノウハウを応用したオプション機能を設定し、皆様のご要望にお応えします。
NEO Cコーティング（プラズマCVD）装置の特長
特長1複雑な形状をした立体へのコーティングができます。
特長2複数のソースガスによる化合物の生成ができます。（オプション仕様）
特長3直流・高周波両プラズマの同時使用による処理ができます。（オプション仕様）
特長4プラズマ（イオン）窒化処理やプラズマ浸炭処理からの連続処理ができます。
特長5種々のオプション機構の組み合わせにより、ご予算に応じた高機能設備を選択できます。
プラズマCVD装置標準タイプ
| 装置 | JPC-815-3SC型 | JPC-815-6SC型 |
|---|---|---|
| 操作方法 | 全自動 | 全自動 |
| 電源入力 ［三相V-kVA］ |
200-78 | 200-139 |
| 処理温度 ［℃］ |
300-600 | 300-600 |
| 有効処理帯 ［径×高さmm］ |
Φ600×1000H | Φ600×1000H |
| 最大処理能力 (治具含む） ［㎡/㎏］ |
1.75/300 | 3.50/300 |
JPE－815－3SC型
