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ラジカル窒化

ラジカル窒化装置

ラジカル窒化装置

ラジカル窒化装置は、炉体(耐真空・耐熱容器)、電気ヒーター、真空排気装置、ガス供給装置、プラズマおよびヒーター電源、操作制御装置そして排ガス処理装置から構成されます。

ラジカル窒化装置

すべての操作は、あらかじめ設定されたプログラムに従って全自動運転で進められます。また、運転中の異常発生時には、状況に応じた速やかな対応が行われます。

ラジカル窒化装置の特長

特長1加熱にガスイオンを用いないため、放電の局部的な集中や昇温途中のアーク放電などに対する対策が容易です。

特長2電気ヒーターによる均一的な加熱により処理時の温度分布が良く均一な処理温度が容易に得られます。

特長3鋼種ごとに最適な窒化条件を精度よく設定することで品質の高い窒化処理を可能にします。化合物層を生成する窒化処理も可能です。(但し、プラズマ窒化処理と同じ仕上がりとなります)

ラジカル窒化装置構成概略

ラジカル窒化装置標準タイプ

型式有効寸法
[mm](φ×H)
処理量
[kg]
処理温度
[℃]
ヒーター出力
[kW]
受電容量
[kVA]
JRN-4040VS 400×400 50 450~550 18 42
JRN-6060VS 600×600 300 450~550 60 77
JRN-8565VS 850×650 500 450~550 80 100
JRN-100150VS 1000×1500 1500 450~550 88.8 130

※この内容は機能向上のため予告なく変更することがあります。

JRN-VS-E6060

JRN-VS-E6060

JRN-4040VS-E

JRN-4040VS-E

JRN-100150

JRN-100150

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ラジカル窒化装置の設備製造・販売は、以下の工場でお受けしております。
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■高周波焼入れ・プラズマ窒化・ラジカル窒化・
 セラミックコーティング・DLC

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■高周波誘導加熱装置・イオン(プラズマ)窒化装置・ラジカル窒化装置・プラズマ浸炭装置・NEO Cコーティング(プラズマCVD)装置・DCプラズマドライブ

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■セラミックコーティング

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FAX:0562-92-0578

■DLC

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【設備販売】
■高周波誘導加熱装置・イオン(プラズマ)窒化装置・ラジカル窒化装置・プラズマ浸炭装置・NEO Cコーティング(プラズマCVD)装置・DCプラズマドライブ

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【受託加工】
■高周波焼入れ

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■プラズマ窒化・ラジカル窒化・
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